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一種基于集成電路制程關鍵參數的移軸光學檢測組件技術，該技術能夠在266-825nm波段，觀察及監測腔體內不垂直于觀察軸的液滴形態、分布、沉積速度等重要的半導體制程參數，并具有長工作距及超短鏡頭長度及可轉折光路等特點，同時擁有低雜光、寬容差、可產業化生產等特性。