6月21日，哈爾濱工業大學對外發布消息稱，該?；づc化學學院吳曉宏教授團隊在超黑涂層技術領域取得重要突破，攻克了超黑涂層常溫制備技術瓶頸，得到了一種朗伯特性顯著的高穩定超黑涂層。
經第三方權威機構檢測，該涂層寬光譜吸收高達99.8%，光線80°入射時總散射積分低至1.5%，可凝揮發物為0.00%，全面滿足多種基體、復雜形面、超大面積實施工藝和空間極端環境應用需求，性能與技術成熟度均優于國內外現役同類產品。
據介紹，超黑涂層能吸收幾乎所有照射在其上的光，應用領域十分廣泛，絕大多數精密光學儀器，都需要超黑涂層來屏蔽光學干擾，提升信噪比和探測能力。
20多年來，吳曉宏教授團隊針對工況條件“量身定制”出一系列滿足服役環境的超黑涂層，已交付遮光罩、擋光板、光闌筒、定標黑體等產品數千件，有效提升了我國航天器光學載荷的在軌探測能力和定位精度，為保證載荷全壽命周期高性能穩定運行提供了必要條件。
